第311章 第一片亮起的硅(2/7)

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小周抬起头，脸色发白：“记得……您说，我洗的每一片硅片，将来可能用在导弹上，用在飞机上……”

“不是可能。”赵四纠正他，“是一定。你今天涂的这片胶，会成为中国第一颗自主芯片的一部分。将来这颗芯片用在哪里，做什么，都从你这一涂开始。”

小周深吸一口气，用力点头：“赵总工，我……我尽力。”

“不是尽力。”赵四看着他，“是必须。相信自己，相信这三个月你练的那几千遍。”

小周咬紧牙关，按下启动钮。

吸盘旋转起来，越来越快。光刻胶从滴管落下，在离心力作用下迅速摊开，形成一层薄薄的膜。转速、温度、时间……所有参数，小周已经烂熟于心。

涂胶完成。薄膜均匀，没有气泡，没有条纹。

“漂亮！”陈启明凑到显微镜前看了一眼，忍不住赞叹。

小周这才发现自己后背全湿透了，腿一软，差点坐地上。旁边的老师傅赶紧扶住他，拍拍他的肩：“小子，行啊！”

这只是第一步。

涂胶、前烘、对准、曝光、显影、后烘……光刻这一道工序，就有七个关键步骤。每个步骤都可能失败，而一旦失败，这片晶圆就废了，三个月的等待，无数人的心血，都废了。

陈启明亲自操作光刻机。

这台六十年代的东德老设备，经过张卫东团队的改造，加装了简易的数控系统。但核心的光学系统还是原来的，分辨率有限，对准精度也有限。

“掩膜版对准。”陈启明眼睛贴在显微镜上，手轻轻转动微调旋钮。

掩膜版上，是“长城1号”的全部电路图案。那是几十个工程师，用放大镜和刻刀，在玻璃板上一点一点刻出来的。最细的线条只有十微米，差不多是头发丝直径的七分之一。

“对准完成。”陈启明直起身，揉了揉发酸的眼睛，“曝光参数？”

“能量300毫焦，时间8秒。”张卫东看着刚改造完的控制面板，“紫外灯管是新换的，强度波动在正负5%以内。”

“开始。”

紫外灯亮了，发出幽幽的紫光。八秒钟，很短。但在场所有人，都觉得这八秒钟，像一个世纪那么长。

曝光完成。晶圆被送入显影槽。

显影液是弱碱性的，会溶解未被紫外线照射的那部分胶膜，露出下面的硅。这个过程，就像洗照片，曝光的地方硬化保留，没曝光的地方溶解消失。

一分钟，轻轻摇晃。

陈启明取出晶圆，用去离子水冲洗，然后吹干。

他再次把晶圆放到显微镜下。

所有人都围了过来，屏住呼吸。

视野里，出现了图案。