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首发：~第424章 真的是0.1纳米的光刻机
古工赶紧凑过去看。
检测图像上密密麻麻的电路结构，线宽比昨天细了整整两个数量级，每一条线的边缘都像刀切一样整齐，没有任何粗糙感。
他调出显微镜的测量工具，在图像上拉了一条线。
屏幕上的数字跳动了几下，停在一个数值上。
他删除测量线，重新拉了一条，在另一个区域再测。
数字几乎一模一样。
六组不同区域的线宽测量，最大值和最小值的偏差小到几乎可以忽略不计，而平均线宽精确地落在了一个数字上——0.1纳米。
哐啷。
茶杯被古工的胳膊碰倒了，茶水洒在桌上，但他浑然不觉。
“零点一纳米！”
“零点一纳米！不是二十五纳米！全口径扫描六个区域，线宽偏差不到百分之一。”
古工的声音有些发颤，这个当了三十多年光学专家的老工程师，此刻说话的声音连他自己都觉得陌生。
苏工一把推开椅子站起来，几乎是跑到光刻机控制面板前面，重新调出系统自检报告。
他逐行核对每一个参数，从光学系统到运动平台到曝光光源到控制系统，每一个数字都用笔抄在纸上，然后重新算了一遍比例关系。
算完之后他把笔往桌上一扔，转身看着古工。
“所有的参数都对得上。光学系统精度、运动平台定位精度、曝光光源波长——这些参数同步提升之后，理论上能达到的线宽精度，就是零点一纳米。”
他指了指屏幕上那个自检报告：
“这台机器昨天晚上被人升级了。不知道是谁，不知道用什么方式。但升级之后的性能参数，每一项都超过了目前国际上最先进的光刻机。”
古工愣在原地，手扶着检测台像是在确认自己没有站不稳：
“零点一纳米！你知道全球最先进的光刻机公开报道的极限线宽是多少吗？这个数字要公布出去，全世界的芯片行业都要地震。”
为了确认是否真的是0.1，苏工重新走到检测屏幕前面，把同一组数据调出来反复对比。
每一遍对比都得出相同的结论。
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