我在未来留过学

第436章 吕尧,国运(求订阅~)(3/3)

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首发:~第436章 吕尧,国运(求订阅~)

他们目前的工艺攻克,不仅要聚焦在7nm上,同时也要聚焦在未来的5nm上。

而比5nm尺度单位更小的3nm晶片其实可以暂时不做考虑,因为到那个级别,攻克技术难关的投入和短期内带来的收益是不成正比的,甚至其中的很多技术难点都是跟当前技术难点不同的。

所以,梁博士针对将来技术的主要研发方向,就集中在7nm,5nm的开发上。

因为国内的EUV光刻机太少太少了,就只有坑来的那一台,想要靠这一台完成量产,那不现实。

但国内DUV光刻机的生产技术其实已经趋近成熟了,所以梁博士提出了非常天才的设想一那就是「多重曝光技术」!

这个技术设想是将一个非常密集的电路层,分解成多个密度较低的图案,然后用现有的DUV光刻机分多次进行曝光和刻蚀,最终将这些图案组合起来,形成最终所需的超密集电路。

这种技术主要是自对准双重图案化,和更复杂的自对准四重图案化。四重图案化可以让线宽在DUV的基础上再缩\一半以上。

这个设想已经经过梁博士的仔细推演,也得到了国内学术界的认可了。

接下来,他们要做的就是把这其中的复杂工艺进行整合突破,提升整体的工艺水平和良品率。

而这项「多重曝光技术」的美妙之处就在于他不仅有利于帮助国内攻克现有的7nm制程工艺,还有利于将来攻克5nm制程工艺。

所以梁博士制定下了三步走的计划。

其中的第一步,自然是他率领五千人的工程师团队,针对「多重曝光技术」进行攻关,努力让国内在未来三年,甚至两年内!突破7nm晶片的量产。

第二步,就是国内光刻机生产厂商要尽快的!尽可能的!搞定EUV光刻机的生产制造O

一旦国内能搞定这一块的内容,那么依靠「多重曝光技术」的积累,他们可以轻松突破5nm晶片制程工艺,对海外所有的半导体生产厂商造成致命性的,近乎绝望的打击!

「多重曝光技术」!

就是梁博士复仇的利刃。

吕尧作为微光国际的大股东,这些信息他知道,而光是从这些信息以及微光国际的相关资源调动,吕尧就能感觉到这是何等浩大恢弘的一盘棋了。

就跟骆马湖AI数据中心一样,微光国际目前看似还在吕尧和荣念晴他们的手里,但实际上,它也不在吕尧和荣念晴他们的手里。

它早已变成了国运的一部分。

而吕尧——

也早就是国运的一部分了。

这也是王大老板这么看重吕尧的最根本的原因。

王大老板这个级别的人物,所能接触到的信息是无法想像的,哪怕他知道的不如吕尧多,但光是一点风声,加上抽丝剥茧的推演和一点点猜测,就足以让他明白很多事情。

这些事情不仅外人知道,吕尧自己更是心知肚明。

不过对外,他是一点风声也没漏,哪怕是身边的林永珍也不知晓这其中的恢弘浩荡。

听完林永珍的查漏补缺后,吕尧就想了想,说道:「极客手机的生产线建设一定要把握在咱们己的,光这么说不,我还是亲跟荣总还有殊姐那边联系下吧。」

说著吕尧就拿出手机,准备跟荣念晴那边进行加密通话,可他手机刚解锁,吕尧居住的暖房外就传来敲门声:」晚上好吕总,我是安吉拉。」

「我给您带了点宵夜过来。」

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