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首发：~第1350章 光刻机
七月十五号，华盛顿，美国商务部产业安全局。一份编号BIS-2002-0715的文件签发。
文件抬头：致荷兰阿斯麦尔公司（ASML）。
正文三十条，每一条都是技术限制。核心意思一句话：从即日起，停止向中华人民共和国出口任何型号的光刻机设备，包括已签订合同但尚未交付的订单。
三十条，写了十二页。每一条后面跟着一个法律依据——《出口管理条例》第几章第几节，《瓦森纳协定》附录几，写得密密麻麻。
七月十七号，消息传到京城。
李建国在煤市街坐了两个小时，把文件的影印件留在方桌上，走了。
张红旗把三十条从头看到尾，一条一条看的。看完，搁下，没说话。
七月二十号。
鹏城，中科院微电子所南方实验室。
钱院士的助手坐夜班飞机到京城，凌晨四点到的，没回酒店，直接打车到煤市街。
张红旗起得早，五点半就在院子里喝茶了。
助手递过来一份实验报告，三十七页。
张红旗翻到第十四页——红色标注的那一段。
“EUV极紫外光源反射镜面镀膜实验。第四十七次试验，钼硅多层膜在六纳米波段反射率未达到百分之六十的最低要求，最高值百分之四十一点三。镀膜层在连续工作十二小时后出现微裂纹。判定：失败。”
助手站在旁边，没坐。
张红旗把报告合上：“钱老怎么说？”
“钱老说，镀膜的问题不是工艺问题，是材料问题。国内现有的高纯度钼靶材，纯度到不了百分之九十九点九九，差两个数量级。这个东西全世界只有三家能做，两家在德国，一家在日本。”
张红旗把报告放在桌上：“让钱老继续做，不要停。钱的事不用操心。”
助手走了。
七月二十二号。
荷兰，费尔德霍芬，ASML总部。
CEO范德贝尔向全球四十七家媒体发出邀请函。
邀请内容：参观ASML总部新落成的EUV概念机研发中心。开放日：八月一号。
邀请函用的英文，A4纸，ASML的蓝色logo印在左上角。
内容不长，但有一句话很有意思。
“Webelievetransparencyisthefoundationoftrust.OurEUVresearchcenterwelcomesallpartnerstowitnessthefutureoflithography.”
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